Esposizione a nanomateriali nei luoghi di lavoro

INAIL 2018

La ricerca in tema di esposizione a nanomateriali riveste un ruolo rilevante per l’Inail, nell’ottica di ridurre gli impatti sulla salute e sicurezza dei lavoratori e contribuire all’implementazione della normativa del settore.

Il volume raccoglie i principali risultati del progetto ‘NanoLab: Metodologia di analisi dell’esposizione ai nanomateriali ingegnerizzati integrata alle tecniche di control banding per la gestione del rischio nei luoghi di lavoro’, illustra le fasi della metodologia sviluppata sulla base degli standard di riferimento, e l’applicazione in tre casi studio di nano-oggetti di dimensionalità differenti (grafene, nanofili e nanoparticelle) realizzati nei laboratori di ricerca e sviluppo degli enti partner.

I tre casi studio sono stati realizzati all’interno del Laboratorio NEST di Pisa. In questo centro di ricerca e didattica multidisciplinare operano all’incirca 150 persone tra docenti, ricercatori, tecnici, assegnisti, collaboratori alla ricerca e giovani in formazione, impegnati nella fabbricazione, nella manipolazione e nello studio di nanostrutture e NM sia di tipo inorganico (semiconduttori e superconduttori), sia biologico (anche per studi in vivo). Sono disponibili litografie di tipo elettronico, ottiche e nano-imprint e tutte le strumentazioni più moderne per la realizzazione di dispositivi optoelettronici completi in una clean room di classe ISO 6 dedicata. Dal punto di vista dello studio sperimentale delle nanostrutture, nei 24 laboratori del NEST sono presenti le strumentazioni per lo studio delle proprietà strutturali, elettriche, optoelettroniche e spettroscopiche delle nanostrutture a varia dimensionalità (0- D, 1-D, 2-D) fino a temperature prossime allo zero assoluto (10 mK), anche in presenza di elevatissimi campi magnetici (fino a 16 Tesla) e ad alta risoluzione spaziale (come microscopi SEM, TEM, SPM) e temporale. La dotazione include anche strumenti per gli studi di tipo biofisico con microscopi confocali anche multifotone e strumentazione per colture e manipolazioni di linee cellulari, sequenziamento ed espressione del DNA e spettrometria di massa. 

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Contenuti:

Introduzione
Analisi di contesto: letteratura e standard normativi di riferimento
Casi studio e descrizione dei processi
Metodologia di analisi e gestione del rischio
Descrizione e discussione dei risultati
Indagine sull’uso dei nanomateriali e sul loro sviluppo responsabile in Italia
Conclusioni
Bibliografia e sitografia
Appendici
Abbreviazioni

Fonte: INAIL
28 Settembre 2018

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